FESTO VEFC质量流量控制器：压电技术200l/min高精度惰性气体流量控制，半导体晶圆保护首选

FESTO VEFC质量流量控制器是市场上最紧凑的型号之一，同时具备最高200 l/min的流量控制能力。得益于数字化技术，流量能够保持恒定。这意味着这款用于惰性气体的动态直控式压电阀无需手动调节——仅需毫秒级时间即可精确调整流量及其设定值，且设定值具有防篡改保护，为用户生产过程提供所需的灵活性。

此外，VEFC支持持续监控生产过程，因为流量和输出压力始终透明可见。

半导体晶圆的可靠保护

在半导体行业中，可靠地控制氮气等惰性气体的流量尤为重要，以避免损坏晶圆。VEFC专注于无需介质隔离的惰性气体应用，在控制Load Port（晶圆装载口）或EFEM（设备前端模块）中的氮气时，与市场上其他解决方案相比具有显著的成本优势。

经济、可靠、精准的N₂吹扫

在Load Port中部署VEFC，可以在各个吹扫步骤中控制不同的流量：

• 预吹扫（Pre-blowing）：快速建立初始惰性气体环境
• 预净化（Pre-purge）：逐步降低氧气和湿度水平
• 过程净化（Process purge）：维持稳定的工艺条件
• 后净化（Post-purge）：工艺完成后的最终保护

VEFC确保在每个步骤中仅使用绝对必要量的氮气，帮助用户节省氮气消耗并缩短达到干燥保护气体环境所需的处理时间。

适用行业

• 电子制造/半导体：晶圆制程中的惰性气体环境保护
• 食品生产：包装中的保护性气体充填
• 机械制造：需要保护气体的焊接、热处理等工序

核心优势一览

• 市场上最紧凑的质量流量控制器之一
• 最高200 l/min流量，压电直控技术，毫秒级响应
• 流量设定防篡改，适合严格的工艺管控要求
• 实时流量与压力透明监控
• 显著节省氮气消耗
• 无需介质隔离，专注惰性气体，成本优势明显

FESTO VEFC质量流量控制器现已通过FESTO全球销售网络供货。如需详细技术规格或应用评估支持，请联系我们的技术工程师。